TFT彩屏LCD液晶屏是如何制作的？以下LCD廠家作具體講解：

TFT-LCD液晶屏主要采用三種半導體材料：非晶硅(aS)、多晶硅( Poly-S)以及硒化鎘(Cdse)每種材料不但有自己獨特的制作流程，而且也有其不同的優缺點。硒化鎘的歷史最久，它不在矩陣電路中可作為每個像素充電所需的場效應管，而且可以用來制作周邊的驅動電路。是到現在為止，一直沒能用這種技術做出一個大面積、高分辨率的彩色顯示器來。由于非薄膜場效應管有很低的漏電流，而又有足夠的工作電流，它的制作流程有很多地方與集成(MOS)元件的制作流程類似，因此它是目前使用最廣泛而且發展最成熟的材料。然而多晶硅薄膜場效應管技術可以將周邊的驅動電路與矩陣電路同時做到玻璃基片上，因硅材料很可能成為明日之星。因為目前大多數 TFT-LCD均使用非晶硅，此處局限于非晶硅薄膜場效應管的制作流程中所使用的設備，諸如步進對準曝光機、等離子晶硅場效應管的制作流程。沉積機和濺射機等，除了體積大外，其他與半導體工業所使用的設備非常類似。最好 的結構為反轉堆疊式。